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TRCX：掺杂过程分析 点击：2475 | 回复：0



lynnli

    
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发表于：2021-12-30 09:24:13
楼主

在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。
 1.jpg



(a)FIB

2.jpg

(b) 掺杂前后对比



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