一、案例背景

某12英寸晶圆厂在扩产过程中面临设备代际差异问题：

· 旧产线：采用倍福CX5140PLC（EtherCAT主站）控制光刻机、刻蚀机等关键设备，数据采集周期为200μs。

· 新产线：部署西门子S7-1500PLC（ProfiNet主站）与MES系统，要求整合旧产线数据以实现全局调度。

· 协议冲突：旧产线设备仅支持EtherCAT，而新产线采用ProfiNet，导致设备互联成本高昂。

· 解决方案：采用捷米特EtherCAT转ProfiNet协议转换网关以解决现场的协议冲突的问题。

二、设备连接与配置

硬件部署：

· EtherCAT域：通过ProfiNet转EtherCAT协议转换网关连接倍福CX5140与12台EtherCAT从站设备（含4台ASML光刻机）。

· ProfiNet域：西门子S7-1500通过OPCUA服务器与MES系统对接，实时获取生产计划。

关键配置步骤：

1. EtherCAT数据采集：

o 在倍福TwinCAT3中配置网关为从站，映射512字节输入（设备状态）与256字节输出（控制指令）。

o 实现光刻机的曝光参数（如剂量、焦点位置）与刻蚀机的工艺参数（如气体流量、射频功率）的实时采集。

2. ProfiNet数据转发：

o 在西门子TIAPortal中配置网关为智能设备，将采集的设备数据通过PN/IO协议传输至S7-1500的DB块。

o 定义数据优先级：将光刻机的报警信号设置为最高优先级（IRT级别），确保异常情况0.5ms内响应。

3. 时间同步机制：

o 网关内置IEEE1588PTP时钟模块，实现EtherCAT与ProfiNet网络的纳秒级同步，满足半导体制造的亚微米级精度需求。

三、应用成效与行业价值

生产优化：

· 产能提升：通过整合旧产线数据，新产线的晶圆处理效率提高18%，单台光刻机的利用率从72%提升至85%。

· 良率改善：实时监控刻蚀机的等离子体密度波动，通过西门子PLC动态调整射频功率，使刻蚀均匀性标准差从3.2%降至1.8%。

· 维护成本：基于网关采集的设备振动数据，实施预测性维护，将非计划停机时间减少60%。

四、行业标杆意义：

1. 跨代际兼容性：JM-ECAT-PN支持EtherCATv2.0与ProfiNetV2.3协议栈，可无缝衔接2007年至2025年的设备。

2. 高可靠性设计：通过-40℃至85℃宽温测试与IP20防护等级，满足晶圆厂洁净室环境要求。

3. 标准化接口：内置OPCUA与MQTT协议，支持与AWSIoT、阿里云等云平台对接，助力半导体行业的数字化转型。

具体内容配置过程及其他相关咨询可联系杨工。