铬粒的应用介绍
Cr, 原子量51.996,密度6.92,熔点1890℃,沸点2665℃,在1.3×10-2Pa真空度时的蒸发温度为1157℃。可用钨、钽制成的锥形篮或舟加热蒸发,少量蒸发也可用钼舟加热。铬是一种升华材料,在真空中蒸发时,表面非常容易氧化,如果生成氧化膜就不容易从表面进行蒸发,因此,有时也采用将铬电镀在尽量粗的钨丝上,然后在真空中加热钨丝对铬进行蒸发。
铬的机械性能良好,蒸镀在加热基底上的铬膜与基底结合得非常牢固。利用铬膜的这种特性,常常将极薄的铬膜用来做过渡层膜,如作为Al、Au的底层膜以增进这些膜对基底的附着力。主要应用于分光镜、反射镜片、虹彩水晶,摩托车头盔面罩等。
爱特斯生产的铬粒,常见尺寸有1-3mm 3-5mm, 纯度99.9%和99.99%,规格可定制。
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