会议时间:2024-09-25 14:00-16:00
维萨拉(北京)测量技术有限公司
半导体晶圆和微电子制造是一个要求很高、几乎不容出错的工艺过程。半导体制造过程既复杂又耗时,制造周期长达 12 到 20 周。制造半导体所需的初期投资巨大,制造流程需要的设备非常昂贵。在新一轮投资周期开始之前,一个制造周期通常会持续大约六年,并且整个生产过程的利润率相对较低,这意味着只有高产量才能保证盈利。因此,避免生产废品和不良品至关重要。
水是半导体制造过程中影响较大的污染物之一,一些预估表明,不合适的湿度条件造成的损失占收入损失的 25%。为避免产品质量和产量出现问题,在半导体制造过程中必须尤为谨慎地监测湿度和温度水平。湿度过高会导致冷凝等问题,而过于干燥的条件则有利于静电荷的积累,可能导致破坏性的静电放电。该行业高度依赖于高性能监测仪器,以准确测量化学品成分和环境条件。维萨拉的高精度测量解决方案适用于制造工艺流程中的关键步骤,响应非常迅速,且能够适应各种环境条件。
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维萨拉 半导体洁净室的温湿度测量
•半导体行业简介
•洁净室湿度测量的极端情况
•半导体洁净室中的暖通空调
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